Este trabalho visa avaliar o comportamento do fotoanodo FTO/m-BiVO4 em diferentes eletrólitos, pH, ânions e cátions, a fim de investigar a influência desses parâmetros na sua atividade fotoeletroquímica. O semicondutor m-BiVO4 foi desenvolvido pela síntese de combustão em solução (SCS) e depositado através da técnica de dip-coating em substrato de vidro condutor revestido com óxido de estanho dopado com flúor. A avaliação do comportamento fotossensível do filme foi feita por voltametria linear e cronoamperometria na presença de luz visível pulsada. Após otimização dos parâmetros fotoeletroquímicos, foi realizado o estudo da fotoeletrocatálise na degradação de glicose. Assim, foi possível avaliar a eficiência do filme nos processos fotoeletrocatalíticos, apresentando-se como um potencial material para tais aplicações.
This work aims to evaluate the behavior of the FTO/m-BiVO4 photoanode in different electrolytes, pH, anions and cations, in order to investigate the influence of these parameters on their photoelectrochemical activity. The m-BiVO4 semiconductor was developed by combustion synthesis in solution (SCS) and deposited by dip-coating technique on fluorinated doped tin oxide (FTO) coated glass substrate. The evaluation of the photosensitive behavior of the film was made by linear voltammetry and chronoamperometry in the presence of pulsed visible light. After photoelectrochemical parameters optimization, the study of photoelectrocatalysis in glucose degradation was performed. Thus, it was possible to evaluate the efficiency of the film in the photoelectrocatalytic processes, presenting itself as a potential material for such applications.
